Факторы, влияющие на характеристики барьерных упаковочных пленок из напыленного оксида кремния

I. Факторы, влияющие на характеристики барьерных упаковочных пленок из оксида кремния, осажденных из паровой фазы

Испарительная базовая пленка, метод испарения, условия испарения, а также состав испарительного покрытия, толщина испарительного слоя и т. д. могут иметь большое влияние на характеристики барьерной упаковочной пленки из оксида кремния испарительного типа.

1. Селективность подложки

Как упоминалось ранее, барьерные свойства барьерных упаковочных пленок из напыленного оксида кремния зависят от покрытия SiOx, поэтому покрытие не может быть разрушено в процессе испарения. Барьерную упаковочную пленку из оксида кремния с паровым покрытием обычно ламинируют с другими пленками для создания пропаренной пленки. При выборе подложки для пропаривания следует обратить внимание на следующие вопросы.

(1) Тип пластиковой пленки

Испарение пленки оксида кремния и адгезионной прочности пластиковой пленки между типом пластиковой базовой пленки имеет большую связь между ПЭТ, ПВХ и другими полярными пленками и оксидом кремния между адгезией лучше, в то время как неполярная пленка и адгезия между оксид кремния хуже.

(2) Состояние поверхности пластиковой пленки

Барьерные свойства барьерной упаковочной пленки из напыленного оксида кремния зависят не только от толщины напыленного слоя, но и в большей степени определяются однородностью покрытия из оксида кремния. Трещины, точечные отверстия и другие дефекты приведут к значительному уменьшению барьера упаковочной пленки типа барьера из оксида кремния, образованию дефектов в дополнение к испарению химического состава и структуры самого слоя, использованию гладкости поверхности базовой пленки, также является важным фактором: чем больше шероховатость, тем больше вероятность возникновения дефектов при испарении, но правильное количество шероховатости сделает слой испарения и поверхность базовой пленки между образованием физического анкера для улучшения адгезии. прослойки.

(3) Условия предварительной обработки поверхности пластиковой пленки

Для получения высококачественных пленок, осажденных из паровой фазы, необходима умеренная обработка поверхности базовой пленки коронным разрядом. Пластиковая пленка после обработки поверхности коронным разрядом может образовывать на своей поверхности оксидный слой (за счет сшивки, озонирования, карбоксилирования, нитрования и других сложных химических реакций, таких как кислород, азот и другие атомы и атомные группы, вводимые на поверхность пластика). пленка), увеличивая базовую пленку и силу сцепления покрытия с напылением между покрытиями. В случае определенного оборудования для предварительной обработки, если время предварительной обработки недостаточно, модификация поверхности недостаточна, это приведет к уменьшению базовой пленки и покрытия между сочетанием стойкости; время предварительной обработки слишком велико, может вызвать более глубокий уровень межфазного ослабления базовой пленки, создать собственный слабый межфазный слой базовой пленки, но также вызванный поверхностью подложки и слоем парового покрытия между силой сцепления.

2. Влияние условий процесса осаждения из паровой фазы на характеристики барьерной упаковочной пленки из оксида кремния, осажденной из паровой фазы.

Независимо от того, используется ли физическое или химическое осаждение из паровой фазы, условия процесса осаждения из паровой фазы могут оказать существенное влияние на характеристики барьерной упаковочной пленки из оксида кремния, поэтому ее следует использовать, насколько это возможно, для улучшения барьерных свойств процесса осаждения пленки из паровой фазы. условия.

(1) При использовании физического осаждения из паровой фазы.

Уровень вакуума, температура пленки подложки, мощность электронной пушки, форма испарения сырья SiO2, скорость введения кислорода в вакуумную камеру, толщина испарительного покрытия (определяется временем испарения и мощность испарения) повлияет на характеристики конечного продукта.

① Чем выше степень вакуума во время испарения, тем более благоприятно испарение SiO2 и тем выше качество испарительного покрытия.

② температура испарения пластиковой базовой пленки высока, способствует испарению SiO, при осаждении пластиковой базовой пленки, образованию плотных покрытий и способствует улучшению адгезии между слоем испарения и пластиковой базовой пленкой, что целесообразно. повысить температуру пластиковой базовой пленки, способствует улучшению качества испарения тонких пленок.

③ используя бомбардировку электронной пушкой, испарение SiO2, целесообразно использовать блок SiO2, потому что порошкообразный SiO2, бомбардируемый электронной пушкой, легко вызывает явление распыления порошка, влияющее на качество испарения пленки, и порошкообразный SiO2. способствует резистивному нагреву и испарению.

④ Скорость введения кислорода влияет на состав испарительного слоя, т. е. на соотношение числа атомов Si к числу атомов 0 в SiOx. Чем больше количество кислорода, т. е. чем больше значение x, тем слой испарения движется в сторону повышения прозрачности, но барьер имеет тенденцию к уменьшению. Когда x равен 2, барьерные характеристики плохие, бесцветный прозрачный паровой слой покрытия, обычно x контролируют в диапазоне 1,5 ~ 1,8, чтобы получить как высокий барьер, так и хорошую прозрачность пленки оксида кремния, покрывающей пар.

Толщина слоя осаждения из паровой фазы увеличивается, барьерные свойства пленки осаждения из паровой фазы увеличиваются, но когда толщина слоя осаждения из паровой фазы превышает 50 нм, толщина слоя осаждения из паровой фазы еще больше увеличивается, барьерные свойства пленки осаждения из паровой фазы в основном остается неизменным, поэтому мы не можем рассчитывать на снижение скорости производственной линии (увеличение времени осаждения из паровой фазы), увеличение толщины метода парового слоя, чтобы неограниченно улучшить барьерные свойства пленки осаждения из паровой фазы.

(2) химическое паровое покрытие, высокочастотная электромагнитная волна или выбор микроволновой частоты, должны быть ионизированы с ионизацией атмосферы в энергии ионизации и энергии, необходимой для ионизации покрытых паром материалов, чтобы соответствовать высокочастотной электромагнитной волне обычно составляет 13,56 МГц, микроволновая частота обычно составляет 2,45 МГц, вакуум в 10-2 Па или около того может быть получен отличный эффект парового покрытия, а физическое паровое покрытие требует более высокого вакуума, то есть 10-2 ~ 10-3 Па, вакуум выше. 10-2~10-3Па или более высокий вакуум.

Компания Nanjing Suminoe Precision Machinery Co., Ltd. представляет собой совокупность научных исследований, производства и продаж на одном из высокотехнологичных предприятий и всегда придерживалась философии бизнеса в области честности, равенства, интересов клиентов в первую очередь, чтобы лучше улучшить качество оборудования, в более профессиональный стандартизированный производственный процесс. Мы создали листовую пластиковую пластину, литье, двунаправленное растяжение, нетканое нетканое полотно, полученное методом выдувания из расплава, пленочный композит, систему переработки возобновляемых гранулятов, защиту окружающей среды, систему производства машин для нанесения покрытий и другие семь категорий оборудования, независимый технологический центр исследований и разработок и производственные отделы. Мы предоставляем профессиональный полный набор технических решений для удовлетворения особых потребностей каждого клиента. Среди них, что касается системы производства экструзионного ламинирования, то есть ламинатора пленки, для индивидуальной настройки доступны следующие производственные линии: линия по производству двойного/тройного коэкструдированного ламинирования PE, линия по производству ламинирования LDPE (3-в-1), PP,PE, Линия по производству двухстороннего ламинирования PLA, линия по производству высокоскоростного ламинирования алюминиевой фольги, линия по производству спанбонд ПП, линия по производству текстильного флизелина, линия по производству ламинирования термоклеем, линия по производству многослойного экструзионного ламинирования, линия по производству графенового ламинирования и другое оборудование для ламинирования. Линия ламинирования с графеновым покрытием, Линия ламинирования углеродным волокном.